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洛陽西格馬高溫電爐有限公司

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1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng):等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)
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1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng):等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)

  • 系列:SGM
  • 別稱:化學氣相沉積系統(tǒng)
  • 溫度:
  • 規(guī)格:臥式、立式
  • 類型:高溫管式爐
  • 咨詢熱線:400-600-3293
  • 產(chǎn)品詳情

  • 聯(lián)系我們

    什么是PECVD系統(tǒng)?

    PECVD系統(tǒng)由管式爐,石英真空管、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。 PECVD 系統(tǒng)主要應用于金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,石墨烯等生長。 洛陽西格馬可生產(chǎn)1200度實驗用小型PECVD、1200度實驗用雙溫區(qū)管式爐小型PECVD、低真空CVD系統(tǒng)、等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)。

    PECVD系統(tǒng)與CVD有什么區(qū)別?

    氣相沉積法化學氣相沉積(CVD)是半導體工業(yè)中應用設計為廣泛的用來沉積多種材 料的技術, 包括大范 圍的絕緣材料,大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。

    CVD 技術常常通過反應類型或者壓力來分類,包括低壓 CVD(LPCVD),常壓 CVD(APCVD),亞常壓 CVD(SACVD),超高真空 CVD(UHCVD),等離子體增強 CVD(PECVD),高密度等離子體 CVD(HDPCVD) 以及快熱 CVD(RTCVD)。

    PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD).

    PVD和熱錨點CVD相比,PECVD可以在相對較低的溫度(小于350℃)下沉積出高均勻性薄膜。此外,對于SiO2, SiNx, a-Si, SiON 和 DLC等材料的沉積,等離子沉積技術提供了秀的薄膜性能控制(折射率、硬度等)。

    1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng)用途

    1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

    1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng)系統(tǒng)配置;

    1、1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐

    2、等離子射頻電源

    3、多路質量流量控制系統(tǒng)

    4、真空系統(tǒng)(單購買)

    1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng)特性:

    可實現(xiàn)手動滑動或自動滑動、氣路數(shù)量2-5可選擇;溫度范圍寬;濺射區(qū)域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現(xiàn)快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,陶瓷薄膜,金屬薄膜,復合薄膜等的不錯的選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

    1200度實驗用小型PECVD系統(tǒng)主要參數(shù):

    系統(tǒng)名稱

    SGM?集成型PECVD系統(tǒng)

    SGM 1200℃小型PECVD系統(tǒng)

    系統(tǒng)型號

    SGM PECVD/12IH-500A

    SGM PECVD/12IH-4Z/G

    控制方式

    液晶屏微PLC控制系統(tǒng)

    手動

    額定溫度

    1200℃(可選1300℃、1400℃、1700℃等

    加熱區(qū)長度

    200mm(可按需定制)

    恒溫區(qū)長度

    100mm(可按需定制

    溫區(qū)

    單溫區(qū)(可生產(chǎn)雙溫區(qū)、三溫區(qū))


    爐管材質
    ?
    石英管

    石英管管徑

    Φ60mm

    Φ50mm

    額定功率

    1.2Kw

    2Kw

    額定電壓

    220V

    滑動方式及距離

    自動滑動;200mm

    手動滑動;200mm

    溫度控制

    30段程序控溫

    50段程序控溫

    控制精度

    ±1℃

    爐管工作溫度

    <1200℃

    氣路法蘭

    采用多環(huán)密封技術卡箍快速連接

    排風冷卻裝置

    先進的空氣隔熱技術,結合熱感應技術,當爐體表面溫升到50℃時,

    排溫風扇將自動啟動,使爐體表面快速降溫。

    氣體控制方式

    質量流量計(按鍵式)

    氣路數(shù)量

    2路(2-4路)

    4路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量)

    流量范圍

    0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定

    精度

    ±1%F.S

    響應時間

    1sec

    工作溫度
    (流量計)

    20/120℃

    工作壓力

    進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

    進氣方式

    采用防倒流設計

    規(guī)格

    中真空(集成型請單購買)

    系統(tǒng)真空范圍

    10Pa/100Pa

    真空泵

    雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S(選配:其他抽速真空泵),出氣口配有油污過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw

    信號頻率

    13.56MHz±0.005%

    功率輸出范圍

    0W-500W

    0W/100W

    反射功率

    350W

    30W

    射頻輸出接口

    50Ω,N-type,temale

    功率穩(wěn)定度

    ±0.1%

    諧波分量

    ≤-50dbc

    供電電壓

    單相交流(187V-253V)頻率50/60HZ

    整機功率

    ≥70%

    屏幕顯示

    正方向功率,匹配器電容位置,偏置電壓值

    爐體外形尺寸
    (僅參考)

    290×360×350mm

    290×350×490mm

    系統(tǒng)外形尺寸
    (僅參考)

    420×1440×1100mm

    530×2310×750mm

    系統(tǒng)總重量

    大約276Kg


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